特許
J-GLOBAL ID：200903001955686049
光学材料用硬化性組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
曾我 道照
, 曾我 道治
, 池谷 豊
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 白石 泰三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-169683
公開番号（公開出願番号）：特開2004-010849
出願日： 2002年06月11日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】本発明は、高分子材料に対して、新たに感光性を付与し、簡易かつ高速な導波路形成を可能とし、屈折率制御性、通信波長における透明性、耐熱性、耐湿性、耐溶剤性、可撓性に優れた高分子光導波路及びその材料を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、必須の構成成分として、エポキシ基を有し、少なくとも3つの結合元素が酸素原子であるケイ素原子を含み、Si-R基(Rは、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基又はR中の水素原子の一部若しくは全部がハロゲン化若しくは重水素化された、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基)を有し、Si-OH基を有さない、重量平均分子量500〜100万のケイ素含有重合体及び硬化触媒を含有することを特徴とする光学材料用硬化性組成物である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
必須の構成成分として、エポキシ基を有し、少なくとも3つの結合元素が酸素原子であるケイ素原子を含み、Si-R基(Rは、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基又はR中の水素原子の一部若しくは全部がハロゲン化若しくは重水素化された、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基)を有し、Si-OH基を有さない、重量平均分子量500〜100万のケイ素含有重合体及び硬化触媒を含有することを特徴とする光学材料用硬化性組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
2H047KA03
, 2H047PA02
, 2H047PA22
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA11
, 4J036AK17
, 4J036BA09
, 4J036DC02
, 4J036DC06
, 4J036DC10
, 4J036DC15
, 4J036GA01
, 4J036HA02
, 4J036JA07
, 4J036JA08
