特許
J-GLOBAL ID：200903001973747462

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者：
岩井 哲博

岩井 哲博 について

, 
森迫 勇

森迫 勇 について

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西中 輝明

西中 輝明 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-151687
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340510
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 簡単な機構で安定した搬送が行えるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板4を電極2上に載置してプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、電極2上面に形成された凹状の曲面より成るワーク載置部2cに基板4を載置してプラズマ処理を行い、このプラズマ処理時には基板4を上方から押し付けて湾曲させてワーク載置部2cの上面にならわせ、プラズマ処理後に基板4を処理室9から搬出する際には押し付けを解除した状態の基板4を搬出ヘッド21により搬出するようにした。これにより、基板4の搬入時と搬出時の位置ずれが発生せず、簡便な機構で位置精度に優れた搬送を実現できる。
請求項（抜粋）：
板状のワークを電極上に載置してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、前記電極上面に形成された凹状の曲面を有するワーク載置部と、このワーク載置部上に外部と気密に形成された処理室と、この処理室内を真空排気する真空排気部と、前記処理室内にプラズマ発生用ガスを供給するガス供給部と、前記電極に高周波電圧を印加する高周波電源部と、前記ワークを上方から押し付けて湾曲させて前記ワーク載置部の上面にならわせる押さえ部と、前記ワーク載置部上にワークを搬入し押し付けを解除された前記ワークを搬出する搬送手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68
FI (5件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 F ,  C23C 16/50 B ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/68 N
Fターム (27件)：
4K030FA03 ,  4K030GA12 ,  4K057DA11 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DM03 ,  4K057DM35 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA20 ,  5F031GA24 ,  5F031HA07 ,  5F031HA38 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031PA14 ,  5F045AA08 ,  5F045EB02 ,  5F045EH12 ,  5F045EJ05 ,  5F045EJ09 ,  5F045EM01 ,  5F045EM02 ,  5F045EN04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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