特許
J-GLOBAL ID：200903080666315889
プラズマクリーニング装置、プラズマクリーニング方法及び回路モジュールの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256117
公開番号（公開出願番号）：特開平10-107062
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 半田から飛散するPb、Sn等がボンディングパッドに付着せずボンディングパッドを効果的に清浄化できるプラズマクリーニング装置およびプラズマクリーニング方法を提供することを目的とする。【解決手段】 チャンバー10と、チャンバー10内に酸素ガスを含む反応ガスを供給する反応ガス供給部22と、チャンバー10外へ排気を行う排気部23と、チャンバー10内に設けられ、高周波電圧が印加される第1電極15と、第1電極15と平行になるようにチャンバー10内に設けられ、かつ基板1を支持するとともに、電気的に接地される第2電極16と、第2電極16によって支持される基板1の周囲を包囲するシールド24とを備える。
請求項（抜粋）：
チャンバーと、このチャンバー内に酸素ガスを含む反応ガスを供給する反応ガス供給部と、このチャンバー外へ排気を行う排気部と、このチャンバー内に設けられ、高周波電圧が印加される第1電極と、この第1電極に対向するように前記チャンバー内に設けられ、かつクリーニングの対象物を支持するとともに、電気的に接地される第2電極と、この第2電極によって支持される対象物を荷電粒子からガードするシールドとを備えることを特徴とするプラズマクリーニング装置。
IPC (6件)：
H01L 21/60 301
, B08B 7/00
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 341
, H05K 3/26
H01L 21/60 301 Z
, B08B 7/00
, C23F 4/00 A
, H01L 21/304 341 D
, H05K 3/26 A
, H01L 21/302 B
