特許
J-GLOBAL ID：200903002032572918

プラズマ処理装置

発明者：
小林 直樹

小林 直樹 について

, 
脇田 昌宏

脇田 昌宏 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (2件)： 細田 益稔 ,  青木 純雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-021490
公開番号（公開出願番号）：特開2006-205085
出願日： 2005年01月28日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】被処理物を搬送しながら、気体からプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置において、被処理物とプラズマ活性種との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造を提供する。【解決手段】プラズマ発生装置は、誘電体31および電極8、8Aを備えている電極装置30、および被処理物21を搬送し、誘電体7に対向して移動させるための搬送手段5を備えている。電極8と搬送手段5との間に電圧を印加することによってプラズマを発生させ、被処理物21を処理する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
誘電体および電極を備えている電極装置、および被処理物を搬送し、前記誘電体に対向して移動させるための搬送手段を備えており、前記電極と前記搬送手段との間に電圧を印加することによってプラズマを発生させることを特徴とする、プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
B01J 19/08 ,  A61L 2/14 ,  B08B 7/00 ,  H05H 1/24
FI (4件)：
B01J19/08 E ,  A61L2/14 ,  B08B7/00 ,  H05H1/24
Fターム (23件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AA46 ,  3B116AB14 ,  3B116BC01 ,  4C058AA12 ,  4C058AA25 ,  4C058BB06 ,  4C058EE23 ,  4C058KK06 ,  4C058KK26 ,  4C058KK44 ,  4C058KK50 ,  4G075AA22 ,  4G075BA10 ,  4G075EB41 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4G075ED11 ,  4G075FA01 ,  4G075FA03 ,  4G075FC15
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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