処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-227403
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106945
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】レジストの如き処理剤を溶解除去するために使用した溶剤の蒸気が周辺雰囲気中に漏出することを防止する機構を有する手段を提供する。【解決手段】処理装置は,基板Sの表面にレジストを塗布するレジスト塗布装置14と,基板の周縁部に付着した不要なレジストを除去する周縁レジスト除去装置15と,レジスト塗布装置14から周縁レジスト除去装置15へ基板Sを搬送する搬送アーム101より構成され,レジスト除去装置14は,搬送アーム101によって搬入された基板Sを載置台21と,載置台21に載置された基板Sの周縁部に付着した不要なレジストを溶解除去するために周縁部に溶剤を吹き付けるノズル45〜48と,不要なレジストを溶解除去するために使用された溶剤および溶解されたレジストを排出するためのドレインパン30及びドレイン管31と,載置台21の下方の雰囲気を下方に排気する排気管32により構成される。

請求項（抜粋）：

表面に処理剤が塗布されている基板を載置させる載置台と,少なくとも前記基板の縁部に付着した処理剤を溶解するための前記縁部に溶剤を供給するノズル機構と,前記溶剤の供給によって溶解した処理剤を吸引除去する吸引機構と,前記載置台に載置された基板の下方に配置された排気機構とにより構成されることを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/38 501 , H01L 21/304 341

FI (4件)：

H01L 21/30 577 , G03F 7/38 501 , H01L 21/304 341 N , H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板端縁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-112033 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-223747 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-174797 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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