投影露光方法及び投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-024807
公開番号（公開出願番号）：特開2006-121119
出願日： 2006年02月01日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】マスクステージの自重変形等に起因してその反射面に湾曲が生じた場合であっても、これに影響されることなく、マスクステージの走査時の位置制御を高精度に行う。【解決手段】走査型の投影露光装置は、搭載された複数のマスクRをその面内で駆動可能で且つ、走査方向と直交する非走査方向の側部に反射面36が形成されたマスクステージRSTと、予め計測された前記反射面の表面湾曲データが各マスクに対応して独立に記憶されたメモリ91と、メモリ91に記憶された前記反射面の表面湾曲データに基づいてマスクステージの位置を制御する主制御装置90とを備えている。このため、仮にマスクステージの自重変形等に起因してその反射面に湾曲が生じた場合であっても、これに影響されることなく、マスクステージの走査時の位置制御を高精度に行うことができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

照明光により照明された所定の照明領域に対してマスクを走査方向に移動させるのに同期して前記照明領域に共役な露光領域に対して感応基板を前記走査方向に移動させることにより前記マスクのパターンを感応基板に露光する走査型の投影露光装置であって、前記マスクを複数搭載して、前記マスクをその面内で駆動可能で且つ、前記走査方向と直交する非走査方向の側部に反射面が形成されたマスクステージと; 予め計測された前記反射面の表面湾曲データが各マスクに対応して独立に記憶された記憶手段と; 前記記憶手段に記憶された前記反射面の表面湾曲データに基づいて前記マスクステージ位置を制御する制御部と; を備える投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (5件)：

H01L21/30 515F , H01L21/30 516B , H01L21/30 518 , H01L21/30 516A , G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046BA05 , 5F046CB17 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046DB04

引用特許：

出願人引用 (3件)

投影露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-334759 出願人：株式会社ニコン
特開平4-273245号公報
特開昭61-44429号公報

審査官引用 (5件)

露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-212438 出願人：株式会社ニコン
位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-019595 出願人：キヤノン株式会社
ステップ・アンド・リピート装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-112936 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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