特許
J-GLOBAL ID:200903002313690774

電子写真装置および電子写真方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-251417
公開番号(公開出願番号):特開2001-075340
出願日: 1999年09月06日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】電子写真において、トナー消費量や画質に影響するカブリを悪化させる事なく、感光体からの転写材の分離性、感光体のクリーニング性、クリーニングブレードやファーブラシ寿命などを向上させる事。【解決手段】感光体11に対して光照射して静電潜像を形成する光照射手段13と、感光体に形成の静電潜像を現像剤で顕画化する現像手段14を備えた電子写真装置において、非画像部を露光するバックグラウンド露光法の画像形成方式であり、画像形成光照射手投は、複数行、複数列の画素マトリックスの画素ごとに光ビームを感光体に照射する方式であり、1画素幅をAとし、1画素の光ビーム照射時に形成される潜像電位分布の半値幅をWvとした時、0.6≦Wv/A≦1.0なる関係を満たし、感光体はアモルファスシリコンを含む感光層を有し、現像剤は、全体に対する粒径1μm以下の含有比が5〜40個数%である事。
請求項(抜粋):
感光体に対して光照射して静電潜像を形成する画像形成光照射手段と、感光体に形成の静電潜像を現像剤で顕画化する現像手段を備えた電子写真装置において、a.非画像部(背景部)を露光するバックグラウンド露光法の画像形成方式であり、b.画像形成光照射手投は、複数行、複数列の画素マトリックスの画素ごとに光ビームを感光体に照射する方式であり、c.1画素幅をAとし、1画素の光ビーム照射時に形成される潜像電位分布の半値幅をWvとした時、0.6≦Wv/A≦1.0なる関係を満たし、d.感光体はアモルファスシリコンを含む感光層を有し、e.現像剤は、全体に対する粒径1μm以下の含有比が5〜40個数%である事を特徴とする電子写真装置。
IPC (6件):
G03G 15/043 ,  G03G 15/04 ,  G03G 5/08 311 ,  G03G 9/08 ,  G03G 21/10 ,  H04N 1/29
FI (6件):
G03G 15/04 120 ,  G03G 5/08 311 ,  G03G 9/08 ,  H04N 1/29 H ,  G03G 21/00 314 ,  G03G 21/00 318
Fターム (31件):
2H005AA15 ,  2H005EA05 ,  2H034BD03 ,  2H034BD05 ,  2H034BF07 ,  2H068DA21 ,  2H068FB01 ,  2H068FB07 ,  2H068FB08 ,  2H068FC05 ,  2H068FC08 ,  2H068FC15 ,  2H076AB05 ,  2H076AB09 ,  2H076AB22 ,  2H076CA03 ,  2H076DA06 ,  5C074AA02 ,  5C074AA11 ,  5C074AA15 ,  5C074AA20 ,  5C074BB03 ,  5C074BB04 ,  5C074BB17 ,  5C074BB26 ,  5C074CC26 ,  5C074DD05 ,  5C074DD30 ,  5C074GG12 ,  5C074GG13 ,  5C074HH02
引用特許:
審査官引用 (7件)
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