特許
J-GLOBAL ID：200903002417513165
製造設備歩留まり向上システム
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-548916
公開番号（公開出願番号）：特表2002-515650
出願日： 1999年05月04日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：
【要約】歩留まり向上システムは、欠陥分類情報と属性情報を全体的分類体系に体系づける。製造設備Fの歩留まり向上システム18は、欠陥データと、製造設備ホスト20といくつかの製造設備機器22、24および26により生成されたその他の情報を処理する。欠陥知識データベース30は、処理機器と歩留まり向上システム18により生成される欠陥データを蓄積している。欠陥データベース30は既知の欠陥、特徴およびその発生源の参照データベースを提供する。自動欠陥発生源特定システム32は、IADCからの全情報と欠陥データベースを結びつける。特定システム32は、次に知的決定アルゴリズムをこの情報へ加え、欠陥の発生源を特定する。全体的クラスは、欠陥発生源の特定と検査および再検査計画の生成のために使用される。システムは、データベースに欠陥情報を蓄積し、情報を頻繁に洗練して分類割り当ておよび欠陥発生源特定の確度を向上する。
請求項（抜粋）：
半導体製造設備における欠陥分類方法であって、 ウェハ分析機器から欠陥に関する分類データを受け取る工程と、 前記ウェハ分析機器から欠陥に関する欠陥属性データを受け取る工程と、 前記分類データと欠陥属性データに基づき全体的分類を欠陥に割り当てる工程と を含む、欠陥分類方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 Z
, H01L 21/02 Z
4M106AA01
, 4M106DA15
, 4M106DH49
, 4M106DH60
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
