膜形成用マスク、膜形成装置、電気光学装置および電子機器

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：上柳雅誉 , 藤綱英吉 , 須澤修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-404483
公開番号（公開出願番号）：特開2005-165015
出願日： 2003年12月03日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：

【課題】マスクが加熱されも高いパターン精度を維持することができる膜形成用マスク、膜形成装置、電気光学装置および電子機器を提供する。【解決手段】複数のワイヤ21と、ワイヤ21に張力を与えるように該ワイヤ21の長手方向の両端を保持するマスク保持部22a,22bとを有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数のワイヤと、前記ワイヤに張力を与えるように該ワイヤの長手方向の両端を保持するマスク保持部とを有することを特徴とする膜形成用マスク。

IPC (4件)：

G09F9/00 , C23C14/04 , H05B33/10 , H05B33/14

FI (4件)：

G09F9/00 338 , C23C14/04 A , H05B33/10 , H05B33/14 A

Fターム (16件)：

3K007AB18 , 3K007BA06 , 3K007DB03 , 3K007FA00 , 3K007FA01 , 4K029BA62 , 4K029BC07 , 4K029CA01 , 4K029DB06 , 4K029HA04 , 5G435AA06 , 5G435AA17 , 5G435BB05 , 5G435HH18 , 5G435KK05 , 5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (2件)

多面取り用メタルマスク及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-048173 出願人：東北パイオニア株式会社
平行線型マスクおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-141575 出願人：エヌ・ビー・シー工業株式会社

審査官引用 (5件)

特公昭58-025738
成膜方法および成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-249864 出願人：ソニー株式会社
成膜装置およびそのクリーニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-128812 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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