特許
J-GLOBAL ID：200903002502103898

酸化処理装置

発明者：
一村 信吾

一村 信吾 について

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野中 秀彦

野中 秀彦 について

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西口 哲也

西口 哲也 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について

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株式会社明電舎

株式会社明電舎 について


代理人 (1件)： 志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089356
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289598
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：
【要約】【課題】 ターゲット基板に酸化種を吸着させ、これにレーザ光を照射してアブレーションを起こし、活性な指向性ビームを得て被酸化試料に酸化膜を形成するのみでは、制御性、高速性、膜濃度・膜分布特性に問題がある。【解決手段】 ターゲット基板31には、酸化種と窒化種を混合させて吸着させておく構成とする。また、ターゲット基板には、深さ方向に層状に酸化種と窒化種と交互に吸着させておく構成、幅方向に酸化種と窒化種の濃度分布をつけて吸着させておく構成を含む。
請求項（抜粋）：
被酸化試料に対向する位置に置かれて低温に保持されたターゲット基板に酸化種を吸着させ、吸着させた酸化種に対してレーザ光を照射してアブレーションを行うことで、活性な指向性ビームを得て被酸化試料に酸化膜を形成する装置において、前記ターゲット基板には、酸化種と窒化種を混合させて吸着させておく構成を特徴とする酸化処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  C23C 14/28 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/318
FI (4件)：
H01L 21/31 A ,  C23C 14/28 ,  H01L 21/316 A ,  H01L 21/318 A
Fターム (23件)：
4K029AA06 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BD01 ,  4K029CA02 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20 ,  4K029EA00 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AB34 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045BB07 ,  5F045EE06 ,  5F045EK17 ,  5F045EK19 ,  5F058BC02 ,  5F058BC11 ,  5F058BF11 ,  5F058BF29 ,  5F058BF30 ,  5F058BG02
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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