特許

J-GLOBAL ID：200903002518370284

近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの製造方法、光情報記録装置、及び光情報再生装置

発明者： 中本 正幸 ,  内藤 勝之 ,  稗田 泰之
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-300438
公開番号（公開出願番号）：特開2002-109779
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】マルチヘッド化が容易な、放熱性が高い、或いは製造が容易な近接場光ヘッド、そのような近接場光ヘッドの製造方法、並びにそのような近接場光ヘッドを用いた光情報記録装置及び光情報再生装置を提供すること。【解決手段】本発明によると、金属材料からなる基体11と、前記基体11に設けられ一方の開口から光を入射させることにより他方の開口から近接場光を出射する貫通孔12とを備えたことを特徴とする近接場光ヘッド10、そのような近接場光ヘッド10の製造方法、並びにそのような近接場光ヘッド10を用いた光情報記録装置及び光情報再生装置が提供される。

請求項（抜粋）：

金属材料からなる基体と、前記基体に設けられ一方の開口から光を入射させることにより他方の開口から近接場光を出射する貫通孔とを備えたことを特徴とする近接場光ヘッド。

IPC (4件)：

G11B 7/135 ,  G01N 13/10 ,  G01N 13/14 ,  G11B 7/22

FI (4件)：

G11B 7/135 Z ,  G01N 13/10 G ,  G01N 13/14 B ,  G11B 7/22

Fターム (7件)：

5D119AA35 ,  5D119AA38 ,  5D119JA43 ,  5D119JA49 ,  5D119JC05 ,  5D119MA06 ,  5D119NA03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• エバネッセント光露光用マスク、その製造方法およびその製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-067122   出願人：キヤノン株式会社
• 微小突起を有するプローブ、及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-218505   出願人：キヤノン株式会社
• 微小開口を有するプローブ、及び該プローブを有する情報処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-249109   出願人：キヤノン株式会社
• 近視野光デバイスとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-363008   出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社