特許
J-GLOBAL ID：200903002577046164

処理装置及び処理方法

発明者：
上川 裕二

上川 裕二 について

, 
江頭 浩司

江頭 浩司 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-229319
公開番号（公開出願番号）：特開2001-053129
出願日： 1999年08月13日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 基板処理室が小型で,基板の受け渡しを簡単に行うことができ,しかも基板を汚染させない処理装置を提供する。【解決手段】 洗浄装置1は,ウェハWを収納可能なキャリアCを搬送するキャリア搬送テーブル7と,ウェハWを搬送するウェハ搬送アーム8と,ウェハWを保持するロータ30と,ロータ30により保持されたウェハWを収納して処理する外ウェハ洗浄室31及び内ウェハ洗浄室32と,ウェハWを移載するウェハハンド33とを備えている。ウェハハンド33は,ウェハ搬送アーム8とウェハハンド33との間でウェハWの受け渡しが行われる受け渡し部34とウェハハンド33を待機させる待機部35との間を昇降自在である。
請求項（抜粋）：
基板を処理する装置であって,基板を保持する基板保持手段と,前記保持手段により保持された基板を収納して処理する基板処理室と,基板を移載する基板移載手段とを備え,前記基板移載手段は,少なくとも前記基板移載手段に対して基板の受け渡しが行われる受け渡し部と,前記基板移載手段を待機させる待機部との間を移動自在であることを特徴とする,処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/304 648
FI (3件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/304 648 A
Fターム (15件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031GA15 ,  5F031HA72 ,  5F031HA80 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031MA09 ,  5F031MA13 ,  5F031MA16 ,  5F031MA23 ,  5F031NA08 ,  5F031PA03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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