基板乾燥処理装置及び基板乾燥処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202611
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214348
出願日： 1998年07月17日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】装置の小型化及び乾燥効率の向上を図れるようにすると共に、パーティクル付着要因の低減を図れるようにすること。【解決手段】乾燥処理室20内に回転可能に配設されるロータ30と、ロータ30に架設され、複数のウエハWをウエハ搬送チャック19との間で起立整列状態で受渡し可能に保持するウエハホルダ40と、ウエハホルダ40と係脱可能に係合し、このウエハホルダ40をロータ30に対して搬入・搬出するウエハガイド50とで主要部を構成する。これにより、ウエハ搬送チャック19によって搬送されたウエハWをウエハホルダ40で受け取り、ウエハホルダ40をロータ30に架設した後、ウエハホルダ40との係合を解いたウエハガイド50を乾燥処理室20から後退させて乾燥処理を行うことができる。

請求項（抜粋）：

乾燥処理室内に回転可能に配設される横軸型回転手段と、上記横軸型回転手段に架設され、複数の基板を基板搬送手段との間で起立整列状態で受渡し可能に保持する基板保持手段と、上記基板保持手段と係脱可能に係合し、この基板保持手段を上記横軸型回転手段に対して搬入・搬出する搬出入手段と、を具備することを特徴とする基板乾燥処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 , F26B 11/04 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/304 651 D , F26B 11/04 , H01L 21/68 N

引用特許：

出願人引用 (7件)

基板回転乾燥装置の排気装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-161398 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
回路パネル層の処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-114853 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特開昭59-039623

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審査官引用 (7件)

基板回転乾燥装置の排気装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-161398 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
回路パネル層の処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-114853 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特開昭59-039623

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