特許
J-GLOBAL ID：200903002656839412

ポジ型化学増幅レジスト組成物及びこれに使用する化合物の製法

発明者：
青合 利明

青合 利明 について

, 
藤森 亨

藤森 亨 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-262790
公開番号（公開出願番号）：特開平8-123031
出願日： 1994年10月26日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】 ナトリウム、カリウムの金属不純物含量の少ないポジ型化学増幅レジスト組成物及び上記金属不純物の混入を防いだ該組成物に使用する酸分解性アルキルエステル基を有する低分子化合物又は樹脂の製造方法を提供する。【構成】 光酸発生化合物、アルカリ水溶液可溶樹脂、及び酸分解し且つアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する低分子酸分解性溶解阻止化合物又は樹脂、を含有し且つナトリウム及びカリウムの含量がそれぞれ30ppb以下である組成物、又特定のアンモニウムヒドロキシド存在下脱酸縮合反応させることにより、前記低分子酸分解性溶解阻止化合物又は樹脂を製造する方法。
請求項（抜粋）：
(a)活性光線、または放射線の照射により酸を発生する化合物、(b)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(c)酸により分解し得る式(I)で示されるアルキルエステル基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、を含有し且つナトリウム及びカリウムの含量がそれぞれ30ppb以下であることを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。【化1】式中R01、R02は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基を示し、R03〜R05は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基を示す。またR03〜R05の内、2つが結合し環を形成してもよい。Nは1〜10の整数を示す。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501 ,  C08L 61/06 LNF ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
引用特許：
審査官引用 (4件)
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