特許

J-GLOBAL ID：200903002784174407

光減衰器デバイス、放射システム、及び、それらの付属するリソグラフィ装置、及び、デバイス製造方法

発明者： コーネリス ペトルス アンドレアス マリー ルイクス ,  ファディム イェフゲンイェヴィチ バニーニ ,  ハコ ボトマ ,  マリヌス ファン デュインホーフェン ,  マルクス フランシスクス アントニウス ユーリングス ,  ヤン ヤープ クリッケ ,  ハイネ メルレ ムルデール ,  ヨハネス ヘンドリック エフェラルデュス アルデゴンダ ムイデルマン ,  コーネリス ヤコブス ファン デュイン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-172173
公開番号（公開出願番号）：特開2008-235941
出願日： 2008年07月01日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】ビームの中心線に対して対称であり、ビームの中心部分に存在する1つ又は複数の光減衰器要素を提供すること。 【解決手段】光減衰器デバイスは少なくとも1つの光減衰器要素を使用して平均強度より高い強度を有する放射のビームの一部を取り除くように動作する。デバイスは、放射システム及び/又はリソグラフィ装置、特に走査型リソグラフィ装置における応用例を有し、光減衰器要素は、ビームの中心部分に、例えば走査方向に垂直に設けられている。 【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置における使用のための放射のビームの均一性を改善するための光減衰器デバイスであって、前記放射のビームから前記放射の少なくとも一部を取り除く少なくとも1つの光減衰器要素を含む光減衰器デバイス。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 516D ,  H01L21/30 515D

Fターム (2件)：

5F046CB08 ,  5F046DA02

引用特許：

出願人引用 (6件)

• リソグラフィック投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-111201   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-301097   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-172159   出願人：キヤノン株式会社
• 光強度の均一化方法およびそれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-287469   出願人：松下電器産業株式会社
• 光開閉装置、表示装置及びこれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-232233   出願人：シャープ株式会社
• 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-140766   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (6件)

• リソグラフィック投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-111201   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-301097   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-172159   出願人：キヤノン株式会社
• 光強度の均一化方法およびそれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-287469   出願人：松下電器産業株式会社
• 光開閉装置、表示装置及びこれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-232233   出願人：シャープ株式会社
• 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-140766   出願人：株式会社ニコン