リソグラフィック投影装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111201
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058442
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィック投影装置において高解像度で高度の限界寸法(CD)の均一性を達成するために基板レベルで光線分布を均一にする。【解決手段】リソグラフィック投影装置は放射線のビームをマスク上に投影する手段を含み、リソグラフィック投影装置でのビーム光線分布を修正装置がマスクレベルでの放射線の統合強さがビームの断面の全長に亘って概ね均一になるようにビームの断面の少なくとも一方向に沿ったビーム(15)の空間強さを変えるようにビーム(15)の行路に位置したフィルタ手段(1)を含む。

請求項（抜粋）：

断面がマスクの面においてマスクパターンよりも小さい投影ビームを供給する放射線源を含む放射システムと、少なくとも第1の方向において運動可能であって、マスクを保持しうるマスクホルダを備えたマスクテーブルと、倍率Mでマスクパターンの放射された部分を基板上に像形成する投影システムと、第1の方向と、第1の方向に対して垂直の第2の方向に沿って運動可能であり、基板を保持しうる基板ホルダを備えた基板テーブルと、少なくとも第1の方向に沿った像形成作業毎の間に投影ビームと投影システムとに対して前記マスクテーブルを運動させるマスクテーブル駆動手段と、前記マスクテーブルが運動する速度のM倍に等しい速度で少なくとも第1の方向に沿った像形成作業毎の間に前記基板テーブルを運動させる基板テーブル駆動手段とを含むリソグラフィック投影システムにおいて、基板レベルにおける統合された放射強さが投影ビームの少なくとも一方向における断面の概ね投影ビームの全長に亘って概ね均一であるように前記ビームの少なくとも一方向における断面の空間強さを変えるように投影ビームの行路に位置したフィルタ手段を含む修正装置を更に含むことを特徴とするリソグラフィック投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/23

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/23 H , H01L 21/30 518

引用特許：

出願人引用 (8件)

走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-020275 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-160062 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-216569 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (9件)

走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-020275 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-160062 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-216569 出願人：株式会社ニコン

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