特許
J-GLOBAL ID：200903038011703774

リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法

発明者：
マルティヌス ヘンドリクス アントニウス レーンデルス

マルティヌス ヘンドリクス アントニウス レーンデルス について

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ヨハンネス フーベルトゥス ヨセフィナ モールス

ヨハンネス フーベルトゥス ヨセフィナ モールス について

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エリク ロエロフ ロープストラ

エリク ロエロフ ロープストラ について

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ノウド ヤン ギリセン

ノウド ヤン ギリセン について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-301097
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178969
出願日： 2002年09月06日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ装置の投影ビームの経路に半影を生じさせる照明強度調節装置を設けて投影ビームの横断面に渡り照明強度を一様にする。【解決手段】 照明強度調整装置10は、投影ビームPBの経路に配置される複数のブレード11から成り、これにより照明野IFを横切って伸長する半影を投じることが可能である。これらのブレードは選択的に回転され、投影ビームPBに垂直にその有効幅を増し、均一性を制御する。
請求項（抜粋）：
- 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、- 所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、- 基板を保持する基板テーブルと、- パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、- 該投影手段との関連において少なくとも走査方向に該基板を運動させる位置決め手段とにより構成されており、さらに、該放射線システムに配置されて、かつ、スキャニング方向において照明野のセンターラインについてほぼ対称をなす半影を、その使用時に、パターニング手段上の照明野に投じる複数の部材から成る強度調整装置を備えていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/04 ,  G21K 5/02
FI (6件)：
G03F 7/20 503 ,  G21K 1/04 P ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518
Fターム (8件)：
2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046BA07 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB09
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (11件)
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