特許
J-GLOBAL ID：200903003344197525
バイナリハーフトーンフォトマスクおよび微細3次元デバイスならびにそれらを製作する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-501104
公開番号（公開出願番号）：特表2006-516751
出願日： 2004年01月22日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
本発明は、包括的には、改良されたバイナリハーフトーン(「BHT」)フォトマスクと、かかるBHTフォトマスクから作製された微細3次元構造(たとえば、MEMS、微小光学、フォトニクス、微細構造および他の3次元微細デバイス)と、に関する。より詳細には、本発明は、BHTフォトマスクレイアウトを設計し、そのレイアウトをBHTフォトマスクに転写し、本発明の方法によって設計されるBHTフォトマスクを使用して3次元微細構造を製作する方法を提供する。この点で、BHTフォトマスクレイアウトを設計する方法は、少なくとも2つのピクセルを生成するステップと、ピクセルの各々を、第1の軸において可変長を有し第2の軸において固定長を有するサブピクセルに分割するステップと、ピクセルを、連続階調の空間光像を形成するようにそれらピクセルに光を透過させるパターンを形成するように配列するステップと、を含む。サブピクセルの面積は、バイナリハーフトーンフォトマスクを使用されることが意図される露光ツールの光学系の最小解像度より小さくなければならない。この方法を使用することにより、BHTフォトマスクを、各グレーレベル間の光強度の変化が有限かつ線形であるように連続したグレーレベルを有するように設計することができる。その結果、このBHTフォトマスクを使用して3次元微細構造を作製する場合、作製されているオブジェクトに対しより平坦かつより直線状の輪郭をもたらすことができる。
請求項（抜粋）：
実質的に透明な基板と、
パターンが形成された不透明層であって、該パターンは少なくとも1つのピクセルによって画定され、該ピクセルの各々は、第1の軸において可変長を有し第2の軸において固定長を有するサブピクセルに分割される不透明層と
を備えたことを特徴とするバイナリハーフトーンフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20
, H01L 21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 501
, H01L21/30 502D
2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BC24
, 2H097GB01
, 2H097LA15
, 5F046AA28
