特許
J-GLOBAL ID：200903061357907718
露光用マスクおよびその製造方法ならびに露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-007624
公開番号（公開出願番号）：特開2005-165248
出願日： 2004年01月15日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】3次元形状を露光によって形成するための露光用マスクとして簡単な構成でしかも十分な階調数を得るようにすること。【解決手段】本発明は、露光装置Sで用いられ露光用のマスクMにおいて、露光装置Sから出射される光を遮断する遮光パターンと、この光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で、しかも遮光パターンと透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置で用いられる露光用マスクにおいて、
前記露光装置から出射される照明光を遮断する遮光パターンと、前記照明光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で前記遮光パターンと前記透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられている
ことを特徴とする露光用マスク。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G02B3/00
, G02B5/00
G03F1/08 A
, G03F1/08 D
, G02B3/00 A
, G02B3/00 Z
, G02B5/00 A
2H042AA05
, 2H042AA08
, 2H042AA09
, 2H042AA11
, 2H042AA15
, 2H042AA25
, 2H095BB02
, 2H095BB31
, 2H095BB36
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
