特許
J-GLOBAL ID：200903003505151393
ネガ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-281425
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117876
出願日： 2002年09月26日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】電子線又はX線の使用に対して孤立性能に優れ、またレジストパターン表面上の異物の少ない優れたネガ型レジスト組成物を提供。【解決手段】(A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により架橋する特定の架橋剤及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の酸発生剤を含有するネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性ポリマー、
(B)一般式(II)〜(IV)で表される化合物、及びアルコキシメチル化メラミン化合物から選ばれる少なくとも一つである、酸により架橋する架橋剤、
及び、
(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(I)で表される酸発生剤
を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD01
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H025FA17
