特許
J-GLOBAL ID：200903030038162278
水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-262200
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176750
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外線およびi線露光に用いる、水性塩基で現像可能な、高解像度フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明の組成物は、フェノールポリマー樹脂、酸触媒下でこれらの樹脂と反応することができるグリコールウリル誘導体から選択される架橋剤、光酸発生剤、および有機溶媒を含む。本発明の組成物は、高解像度(0.25マイクロメートル未満)のネガティブ・トーンのイメージを形成するのに特に有用である。
請求項（抜粋）：
フェノール樹脂またはポリマーと、グリコールウリル誘導体と、光酸発生剤とを含むフォトレジストの未硬化被膜を基板上に設けるステップと、前記被膜をイメージ通りパターンに紫外線で露光して、それによって前記パターン中に酸触媒を発生させるステップと、前記露光した被膜を90〜130°Cで1〜2分間加熱するステップと、前記フォトレジストを塩基水溶液中で現像するステップとを含むフォトレジストのパターンを形成する方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/038 501
, G03F 7/038 601
H01L 21/30 502 R
, G03F 7/038 501
, G03F 7/038 601
