特許
J-GLOBAL ID：200903003546589565
プラズマ生成装置と処理システム
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
朝日奈 宗太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-151653
公開番号（公開出願番号）：特開2008-071739
出願日： 2007年06月07日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：
【課題】電極無損耗の処理システムとプラズマ生成装置を提供する。【解決手段】処理システムは、第一流体を利用し、被処理物体に対し処理を実行する。処理システムはベースとプラズマ生成装置を有する。ベースは被処理物体を載置する。プラズマ生成装置は第一流体をイオン化する。プラズマ生成装置は少なくとも一つの導引素子と少なくとも一つの電極素子を有する。導引素子は経路を有し、第一流体は経路に沿って第一位置と第二位置を順に通過する。電極素子は第一電極と第二電極を有し、第一電極は第一位置に対応し、第二電極は第二位置に対応する。第一電極、第二電極は第一位置と第二位置の間の第一流体を励起して第二流体を生成し、第二流体はベース上の物体に対し表面処理、活性化、洗浄、フォトレジスト灰化、あるいは、エッチング処理を実行する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第一流体をイオン化するためのプラズマ生成装置であって、該プラズマ生成装置は、
経路を有し、前記第一流体が前記経路に沿って第一位置と第二位置を順に通過する少なくとも一つの導引素子と、
第一電極と第二電極を有し、前記第一電極は前記第一位置に対応し、前記第二電極は前記第二位置に対応し、前記第一電極、前記第二電極は、前記第一位置と前記第二位置間の前記第一流体を励起して第二流体を生成する少なくとも一つの電極素子と、
からなり、前記第一流体のエネルギー状態は前記第二流体のエネルギー状態と異なることを特徴とするプラズマ生成装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, H01L 21/306
, H01L 21/304
H05H1/24
, H01L21/302 101E
, H01L21/304 645C
5F004BA03
, 5F004BA06
, 5F004BB13
, 5F004BD01
, 5F157AA21
, 5F157AA81
, 5F157BG33
, 5F157BG34
, 5F157BG36
, 5F157BG37
, 5F157BG39
, 5F157BG72
, 5F157CE66
, 5F157CF46
, 5F157CF48
, 5F157CF72
, 5F157DA43
