特許
J-GLOBAL ID:200903004010204276

レーザー光照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安富 耕二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-192962
公開番号(公開出願番号):特開2000-031083
出願日: 1998年07月08日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】 被処理基板に照射する線状レーザー光の長軸方向及び短軸方向のレーザー光強度を均一にし、a-siを形成した基板に均一に線状レーザー光を照射することのできるレーザー光照射装置を提供する。【解決手段】 レーザー光発振源1からのレーザー光を複数のレンズ3,4,5,6,7,8,9,12,13により線状レーザー光とし、その線状レーザー光の被照射体20とその被照射体20に最近接の集光レンズ13との間に設けた光拡散板40によって線状レーザー光の長軸及び短軸方向の強度を均一にする。
請求項(抜粋):
レーザー光の発振源、該発振源から照射されたレーザー光を組み合わせによってレーザー光を線状にする複数のレンズ、及び前記線状レーザー光の被照射体と前記複数のレンズから出射される線状レーザー光を集光し前記レーザー光被照射体に最近接の集光レンズとの間に設けた光拡散板を備えたことを特徴とするレーザー光照射装置。
IPC (2件):
H01L 21/268 ,  B23K 26/06
FI (2件):
H01L 21/268 J ,  B23K 26/06 E
Fターム (5件):
4E068CA05 ,  4E068CB08 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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