特許

J-GLOBAL ID：200903004035383418

基板ホルダー

発明者： 小田野 直水 ,  原田 保 ,  下嶋 浩正
出願人/特許権者： セランクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-193344
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029814
出願日： 2003年07月08日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】基板ホルダーから剥離したパーティクル・ダストは、不良品発生の原因となる。このため、ある程度成膜操作を繰り返すたびに基板ホルダーを洗浄しているが、この洗浄の間隔を長くすることができ、洗浄にも手間がかからない基板ホルダーを提供する。【解決手段】成膜装置内で基板を保持する基板ホルダーであって、該基板ホルダーには基板を埋設・保持する凹部が形成されており、かつ、基板ホルダーの成膜を受ける面の前記凹部以外の面に複数の溝部が形成されていることを特徴とする基板ホルダー。【選択図】 図2

請求項１：

成膜装置内で基板を保持する基板ホルダーであって、該基板ホルダーには基板を埋設・保持する凹部が形成されており、かつ、基板ホルダーの成膜を受ける面の前記凹部以外の面に複数の溝部が形成されていることを特徴とする基板ホルダー。

IPC (3件)：

C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  H01L21/68

FI (3件)：

C23C14/50 D ,  C23C16/458 ,  H01L21/68 N

Fターム (16件)：

4K029AA09 ,  4K029BA08 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC22 ,  4K029JA01 ,  4K029JA05 ,  4K030GA02 ,  4K030KA46 ,  5F031CA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031MA29 ,  5F031PA09 ,  5F031PA24 ,  5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 基板ホルダー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-294893   出願人：三菱重工業株式会社
• 成膜装置用構成部品及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-108165   出願人：日本真空技術株式会社
• ウェハ保持部材及び耐プラズマ用部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-014491   出願人：京セラ株式会社
• 成膜装置用構成部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-299420   出願人：日本真空技術株式会社
• 特公平6-000448