反射防止膜材料及びパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-311095
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133984
出願日： 1999年11月01日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【解決手段】炭化水素基の水素原子の一部又は全部がフッ素置換されたアルキルアミン又はアルカノールアミンを含むことを特徴とする水溶性反射防止膜材料。【効果】本発明の光反射防止膜材料は、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、再現性よくレジストパターンを形成し得る。

請求項（抜粋）：

炭化水素基の水素原子の一部又は全部がフッ素置換されたアルキルアミン又はアルカノールアミンを含むことを特徴とする水溶性反射防止膜材料。

IPC (2件)：

G03F 7/11 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/11 501 , H01L 21/30 574 , H01L 21/30 575

Fターム (11件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025DA20 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 5F046PA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

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