特許
J-GLOBAL ID:200903004123968914
吸音体及び吸音構造体並びに吸音体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
渡辺 喜平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-063172
公開番号(公開出願番号):特開2006-243678
出願日: 2005年03月07日
公開日(公表日): 2006年09月14日
要約:
【課題】 生産性及び品質安定性に優れ、かつ、一定の周波数帯の騒音のみを吸音することのできる吸音体の製造方法の提供を目的とする。【解決手段】 裏面に形成されたスキン層と、このスキン層に挟まれ多数の空隙を備えた空隙層とを有し、一方のスキン層を貫通し他方のスキン層まで到達しない深さの孔を複数形成した吸音体であって、前記孔を前記空隙層に連通させるとともに、前記孔の底部を入射音を乱反射させる形状とした。前記底部の断面形状は、三角形状、波形状、凹凸状、円弧状及び不定形状のいずれかとするとよく、前記底部と孔軸線とのなす角を、30°〜80°の範囲内とするとよい。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
表裏面に形成されたスキン層と、このスキン層に挟まれ多数の空隙を備えた空隙層とを有し、一方のスキン層を貫通し他方のスキン層まで到達しない深さの孔を複数形成した吸音体であって、
前記孔を前記空隙層に連通させるとともに、前記孔の底部を、入射音を乱反射させる形状としたこと、
を特徴とする吸音体。
IPC (4件):
G10K 11/172
, B29C 45/26
, B60R 13/08
, F02M 35/12
FI (4件):
G10K11/16 E
, B29C45/26
, B60R13/08
, F02M35/12 H
Fターム (30件):
3D023BA02
, 3D023BA03
, 3D023BB02
, 3D023BB08
, 3D023BB16
, 3D023BB21
, 3D023BC01
, 3D023BD01
, 3D023BD03
, 3D023BD12
, 3D023BD18
, 3D023BD22
, 3D023BE02
, 3D023BE20
, 4F202AG03
, 4F202AG05
, 4F202AG20
, 4F202AG28
, 4F202AH03
, 4F202AR07
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CB30
, 4F202CK12
, 4F202CK17
, 4F202CK18
, 4F202CK42
, 4F202CK43
, 5D061BB02
, 5D061BB05
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)