特許
J-GLOBAL ID：200903004295931842

還元鋳造方法およびこれに用いる還元剤

発明者：
伴 恵介

伴 恵介 について


出願人/特許権者：
日信工業株式会社

日信工業株式会社 について


代理人 (2件)： 綿貫 隆夫 ,  堀米 和春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-294476
公開番号（公開出願番号）：特開2006-102790
出願日： 2004年10月07日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】 還元鋳造装置の構成を簡素化し、還元性物質を用いた還元鋳造を容易に可能にする還元鋳造方法を提供する。【解決手段】 溶湯34の表面に形成される酸化被膜を還元性物質により還元して鋳造する還元鋳造方法において、前記還元性物質62が封入された還元剤60を溶湯内に投入し、該還元剤60の前記還元性物質62を封入する封入体61を溶湯34の熱により溶融させて前記還元性物質62を拡散させ、該還元性物質62を溶湯34の熱により活性化して溶湯34に作用させて鋳造することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
溶湯の表面に形成される酸化被膜を還元性物質により還元して鋳造する還元鋳造方法において、 前記還元性物質が封入された還元剤を溶湯内に投入し、 該還元剤の前記還元性物質を封入する封入体を溶湯の熱により溶融させて前記還元性物質を拡散させ、該還元性物質を溶湯の熱により活性化して溶湯に作用させて鋳造することを特徴とする還元鋳造方法。
IPC (4件)：
B22D 27/18 ,  B22D 17/00 ,  B22D 18/02 ,  B22D 21/04
FI (5件)：
B22D27/18 A ,  B22D27/18 Z ,  B22D17/00 Z ,  B22D18/02 K ,  B22D21/04 A
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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