アレイ導波路格子の位相調整用マスク及びそれを用いたアレイ導波路格子の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光石俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-058665
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249243
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】アレイ導波路格子の各導波路の位相誤差を、同時に調整する。【解決手段】アレイ導波路格子2の各アレイ導波路の長さは一定ピッチで増加していることが基本であるが、実際には作製後の各アレイ導波路には位相誤差が存在する。そこで、位相調整用マスク11の窓9を介して、紫外線レーザビーム10を、各導波路に照射し、紫外光誘起屈折率変化を利用して、各導波路の位相を制御する。しかも窓9は、各導波路毎の位相に応じた長さとなっているため、紫外線レーザビーム10を一回照射するだけで、全ての導波路の位相を設計値にあわせることができる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成され、複数の光入射端、分岐部、合波部、複数の光出射端、前記分岐部と前記合波部に挟まれた複数のアレイ導波路から構成され、各光入射端からの入射光を分波してそれぞれの光出射端より出射するアレイ導波路格子の該アレイ導波路の一部のみを露呈させることを目的とするマスクであって、該アレイ導波路の本数をN、k(=1,2,,N)番目のアレイ導波路の設計値からの位相のずれをφk 、N個の実数の組を{Φk }(k=1,2,,N)、k番目のアレイ導波路上の特定の地点をPk 、Cをある定数として、点Pk からk番目の導波路に沿ってC(Φk -φk )の距離にある地点Qk に対して、点{P1 ,P2 ,,PN-1 ,PN }と{QN ,QN-1 ,,Q2 ,Q1 }を順次結んで得られる閉曲線Σ({Φk })に対して、その表面が該閉曲線よりも広く紫外線を遮断する薄膜金属等のプレート上で、該閉曲線Σ({Φk })で囲まれた部分を除去してできる間隙を窓として有することを特徴とするアレイ導波路格子の位相調整用マスク。

IPC (2件)：

G02B 6/13 , G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 F

Fターム (6件)：

2H047KA04 , 2H047LA12 , 2H047LA18 , 2H047MA05 , 2H047TA11 , 2H047TA42

引用特許：

審査官引用 (7件)

アレイ導波路回折格子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-333525 出願人：日本電気株式会社
光回路の特性調整方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-091261 出願人：日本電信電話株式会社
特開平4-298702

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