特許
J-GLOBAL ID：200903004473503396
回折光学素子の製造方法、回折光学素子、光ピックアップ装置及び光ディスク装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-059792
公開番号（公開出願番号）：特開2006-243416
出願日： 2005年03月04日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】高コスト化を招くことなく、ピッチが短く、高い回折効率を有する回折光学素子を得る。【解決手段】光学的異方性を示す領域と光学的等方性を示す領域の周期構造を有する回折光学素子を多光束干渉光を用いて製造する際に、非重合性液晶と重合性モノマーと光重合開始剤とを混合し、光学的異方性を示す領域の異常光屈折率と光学的等方性を示す領域の屈折率との差が略最大値となる温度で混合物に多光束干渉光を照射する。これにより、高コスト化を招くことなく、ピッチが短く、回折効率が高い回折光学素子を得ることができる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
光学的異方性を示す第1の領域と光学的等方性を示す第2の領域の周期構造を有する回折光学素子を多光束干渉光を用いて製造する製造方法であって、
非重合性の液晶と重合性を有する高分子と光重合開始剤とを混合した混合物を作成する工程と;
前記第1の領域の異常光屈折率と前記第2の領域の屈折率との差が略最大となる露光温度に前記混合物を加熱する工程と;
前記露光温度に加熱された前記混合物に多光束干渉光を照射する工程と;を含む回折光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B5/18
, G11B7/135 A
, G11B7/135 Z
2H049AA25
, 2H049AA34
, 2H049AA43
, 2H049AA57
, 5D789AA02
, 5D789AA40
, 5D789BA01
, 5D789JA24
, 5D789NA05
