特許
J-GLOBAL ID：200903004543567494

リブ加工用反射防止膜形成溶液、それを塗布したリブ形成用積層体およびリブパタ-ンの形成方法

発明者：
中里 俊二

中里 俊二 について

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佐藤 弘光

佐藤 弘光 について

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帯谷 洋之

帯谷 洋之 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001687
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199965
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】微細で寸法精度に優れたリブパターンを形成でき、かつ残渣物をリブパターン上に残すことがないリブ加工用反射防止膜形成溶液溶剤、反射防止膜を有するリブ形成用積層体およびリブパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】光性材料を含有する有機溶剤からなる加工用反射防止膜形成溶液、該反射防止膜形成溶液で形成した反射防止膜を有するたリブ形成用積層体およびリブパターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
吸光性材料を含有する有機溶剤からなることを特徴とするリブ加工用反射防止膜形成溶液。
IPC (6件)：
G03F 7/11 503 ,  C09D 5/00 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 11/02 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/11 503 ,  C09D 5/00 M ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 11/02 B ,  H01L 21/30 574
Fターム (52件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC12 ,  2H025BC14 ,  2H025BC31 ,  2H025BC45 ,  2H025CC11 ,  2H025CC13 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025DA29 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H025FA42 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096CA06 ,  2H096CA12 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  4J038JA34 ,  4J038JB16 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038NA19 ,  4J038PB09 ,  4J038PB11 ,  4J038PC03 ,  5C040GF19 ,  5C040JA15 ,  5C040JA17 ,  5C040JA21 ,  5C040KA08 ,  5C040KA17 ,  5C040KB03 ,  5C040KB14 ,  5C040KB19 ,  5C040MA23 ,  5C040MA24 ,  5F046AA02 ,  5F046PA07 ,  5F046PA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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