ポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いた多層レジスト材料

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-305873
公開番号（公開出願番号）：特開平10-133368
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】特に0.40μm以下の超微細なパターンの形成においても、残膜率がよく、露光部と未露光部の現像コントラストに優れ、露光余裕度、焦点深度幅特性、および断面形状に優れたレジストパターンの形成が可能なポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物、および(C)下記一般式(I)【化1】R1-SO2-X (I)(式中、R1はアルキル基、置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール基または置換基を有するアリール基を表し;Xはハロゲン原子を表す)で表されるスルホン酸ハロゲン化物の少なくとも1種を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物、および(C)下記一般式(I)【化1】R1-SO2-X (I)(式中、R1はアルキル基、置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール基または置換基を有するアリール基を表し;Xはハロゲン原子を表す)で表されるスルホン酸ハロゲン化物の少なくとも1種を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/022 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/022 601 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/023 511 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (8件)

感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-352216 出願人：コニカ株式会社, 三菱化成株式会社
感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-260869 出願人：三菱化成株式会社, コニカ株式会社
特開平1-140143

全件表示

前のページに戻る