特許
J-GLOBAL ID:200903004699867129
基板処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-282115
公開番号(公開出願番号):特開2007-090216
出願日: 2005年09月28日
公開日(公表日): 2007年04月12日
要約:
【課題】処理槽または処理室の内部と外部との間で基板を搬送しつつ基板を処理する基板処理装置において、処理槽または処理室内を良好に密閉できる技術を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、基板保持部34の上部に枠部33を有する。そして、基板Wをチャンバ20内に搬入したときには、枠部33を挟んでチャンバ20とカバー22とを閉鎖し、チャンバ20内を密閉する。また、基板Wをチャンバ20の上方に搬出したときには、チャンバ20とカバー22とを直接接触させて閉鎖し、チャンバ20内を密閉する。このため、基板Wをチャンバ20内に搬入したときにも、基板Wをチャンバ20の上方へ搬出したときにも、チャンバ20内を良好に密閉できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に処理を行う基板処理装置であって、
基板を処理する処理空間を内部に有する処理室と、
前記処理室の上部に形成された開口部を介して前記処理室の内部と外部との間で基板を搬送する搬送部と、
前記開口部に対して開閉可能なカバーと、
を備え、
前記搬送部は、前記処理室の外部に配置された駆動部と、前記駆動部の駆動により前記処理室の内部と外部との間で移動可能であり、かつ基板を保持する保持部と、前記駆動部と前記保持部との間を連結させる枠部とを備え、
前記保持部が前記処理室の内部にあり、かつ前記カバーを閉じた場合、前記枠部は前記開口部と前記カバー部との間に狭持されて前記処理室内を密閉にさせ、
前記保持部が前記処理室の外部にあり、かつ前記カバーを閉じた場合、前記カバーは前記開口部と接触して前記処理室内を密閉にさせることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
B08B 3/04
, H01L 21/677
, H01L 21/304
FI (4件):
B08B3/04 B
, H01L21/68 A
, H01L21/304 642B
, H01L21/304 648C
Fターム (23件):
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB08
, 3B201AB44
, 3B201BB04
, 3B201BB22
, 3B201BB90
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201BB96
, 3B201CC01
, 3B201CD36
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031FA09
, 5F031FA12
, 5F031GA15
, 5F031HA42
, 5F031HA73
, 5F031MA23
, 5F031NA09
, 5F031NA18
, 5F031PA30
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (4件)
-
洗浄装置及び圧電デバイスの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-068324
出願人:セイコーエプソン株式会社
-
洗浄殺菌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-054575
出願人:松下冷機株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-081559
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
静電チャックの電極構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-082946
出願人:株式会社クリエイティブテクノロジー
全件表示
前のページに戻る