レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-125303
公開番号（公開出願番号）：特開2009-276404
出願日： 2008年05月12日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

【課題】レジスト組成物用のクエンチャー成分として有用な新規な化合物、クエンチャー成分として該化合物を含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、およびクエンチャー成分(D)を含有するレジスト組成物であって、前記クエンチャー成分(D)が、カチオン部に芳香族基を有さないオニウム塩(D1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、およびクエンチャー成分(D)を含有するレジスト組成物であって、前記クエンチャー成分(D)が、カチオン部に芳香族基を有さないオニウム塩(D1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C07C 305/06 , C07C 309/19 , C07C 381/12

FI (6件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C07C305/06 , C07C309/19 , C07C381/12

Fターム (20件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB80

引用特許：

出願人引用 (6件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-201310 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-130385 出願人：富士写真フイルム株式会社
レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-270932 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (5件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-130385 出願人：富士写真フイルム株式会社
レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-270932 出願人：富士写真フイルム株式会社
深紫外線用のフォトレジスト組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-544083 出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド

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