特許

J-GLOBAL ID：200903087774107510

レジスト組成物

発明者： 高橋 表 ,  水谷 一良 ,  白川 浩司 ,  安波 昭一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-270932
公開番号（公開出願番号）：特開2004-310004
出願日： 2003年07月04日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】 感度と解像性に優れ、更にはパターン形状も良好なレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線または放射線の照射により、活性種を発生する化合物、(B)(A)の化合物から発生した活性種と反応及び/又は電子移動し、(A)の化合物から発生した活性種と異なる活性種を発生する化合物、及び(C)(B)の化合物から発生した活性種から電子移動し、酸を発生する化合物を含有し、(B)の化合物から発生した活性種の酸化電位の1/2波をEpaとし、(C)の化合物の還元電位の1/2波をEpcとすると、Epc-Epa >0 の関係を満すレジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線または放射線の照射により、活性種を発生する化合物、 (B)(A)の化合物から発生した活性種と反応及び/又は電子移動し、(A)の化合物から発生した活性種と異なる活性種を発生する化合物、及び (C)(B)の化合物から発生した活性種から電子移動し、酸を発生する化合物、 を含有し、 (B)の化合物から発生した活性種の酸化電位の1/2波をEpaとし、(C)の化合物の還元電位の1/2波をEpcとすると、Epc-Epa >0 の関係を満す、ことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (14件)

• 特公平8-3635号公報
  
• 欧州特許0919867号明細書
  
• 特表平7-508840号公報
  
• 特開平3-200968号公報
  
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-312671   出願人：日本ゼオン株式会社
• レジストの基板依存性改善剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-134343   出願人：和光純薬工業株式会社
• 特開平2-52348号公報
  
• 特開平4-367864号公報
  
• 特開平4-367865号公報
  
• 特開平3-87746号公報
  
• 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-358730   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 特許第2968055号公報
  
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-327090   出願人：富士写真フイルム株式会社
• パターン形成材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-352628   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (2件)

• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-343818   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-314816   出願人：富士写真フイルム株式会社