特許
J-GLOBAL ID：200903004998667675
トンネル内の特定ガス濃度測定装置およびトンネル内の排気方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-315726
公開番号（公開出願番号）：特開2005-083874
出願日： 2003年09月08日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】 特定ガスの迅速な濃度測定が可能であり、また所定区間における平均的な濃度測定が可能な、トンネル内の特定ガス濃度測定装置を提供する。【解決手段】 特定ガスによる吸収波長近傍のレーザ光をトンネル1内で照射するレーザ照射手段30と、照射されたレーザ光をトンネル1内で受光するレーザ受光手段40とを有し、レーザ吸収法によりトンネル1内における特定ガスの濃度を算出する。なお、算出した特定ガス濃度に基づいて、トンネル1内の排気手段の運転を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも特定ガスによる吸収波長のレーザ光を発振可能な半導体レーザと、前記半導体レーザにより発振される前記レーザ光を、前記特定ガスによる吸収波長を中心に波長変調するレーザ制御部と、前記半導体レーザにより発振されたレーザ光をトンネル内で照射するレーザ照射手段と、前記レーザ照射手段から照射された前記レーザ光を前記トンネル内で受光するレーザ受光手段と、
前記レーザ受光手段により受光されたレーザ光の強度に相当する信号から、前記半導体レーザにより発振されたレーザ光の変調周波数の基本波成分および2倍波成分を位相敏感検波して、前記トンネル内における前記特定ガスの濃度を算出するデータ処理部と、を有することを特徴とするトンネル内の特定ガス濃度測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059CC04
, 2G059EE01
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG09
, 2G059HH01
, 2G059JJ11
, 2G059JJ17
, 2G059KK01
, 2G059MM14
, 2G059MM20
出願人引用 (1件)
審査官引用 (26件)
全件表示
前のページに戻る
