特許
J-GLOBAL ID：200903005177849399

スペーサ散布装置、及び液晶表示素子の生産システム

発明者：
比嘉 政勝

比嘉 政勝 について

, 
池口 弘

池口 弘 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-067132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-268071
出願日： 2001年03月09日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：
【要約】【課題】 搬送装置へのスペーサ付着を回避してワークの搬送を安定させ、スペーサの凝集を防止して歩留まりを改善するスペーサ散布装置を提供する。【解決手段】 スペーサ3散布時にワーク1の一部を選択的に覆い、当該部分へのスペーサ3の付着がないよう遮蔽する。また、ワーク1の支持は面状ではなく、複数の箇所で支持ピン18によって点状に支持する。このため、スペーサ散布装置3は、ワーク1をマスクする散布マスク61とこれを上下動させる昇降機構62とを含む。この結果、ワーク1の搬送時にはワーク1の上面を吸着して行うことが可能となる。散布マスク61の交換は、搬送装置65を使用して行うことが効率的である。散布マスク61の交換時には、散布槽11内を負圧とし、スペーサ3の外部流出を防ぐ。交換直後にはスペーサ3の散布時間条件が長めとなるよう自動変更する。
請求項（抜粋）：
基板を略水平に保持するワークステージと、前記基板の略水平な面に対向する位置に配置されて前記基板にスペーサを散布する散布ノズルと、前記ワークステージと前記散布ノズルとを含んだ周囲を囲む散布槽と、から構成され、前記基板の面にスペーサを散布するスペーサ散布装置において、前記基板の面の部分を選択的に覆い、当該部分に対する前記スペーサの付着を遮蔽するマスク機構をさらに含むことを特徴とするスペーサ散布装置。
IPC (6件)：
G02F 1/1339 500 ,  B05B 15/04 104 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 9/12 ,  B05C 13/02 ,  G02F 1/13 101
FI (6件)：
G02F 1/1339 500 ,  B05B 15/04 104 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 9/12 ,  B05C 13/02 ,  G02F 1/13 101
Fターム (20件)：
2H088FA17 ,  2H088MA20 ,  2H089NA09 ,  2H089NA60 ,  2H089QA12 ,  4D073AA10 ,  4D073DB03 ,  4D073DB12 ,  4D073DB21 ,  4D073DB43 ,  4F041AA06 ,  4F041BA23 ,  4F041BA35 ,  4F041CA02 ,  4F042AA07 ,  4F042DE01 ,  4F042DF09 ,  4F042DF16 ,  4F042DG03 ,  4F042DG09
引用特許：
審査官引用 (14件)
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