特許
J-GLOBAL ID:200903005325591657

窒素導入型金属酸化物の製造方法及びこれを用いた光触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-013496
公開番号(公開出願番号):特開2009-196883
出願日: 2009年01月23日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
【課題】低温下で簡便に窒素導入型金属酸化物を製造する方法、及び可視光領域で光触媒として高い性能を有する窒素導入型金属酸化物光触媒の製造方法を提供する。【解決手段】ヒドラジン化合物存在下で、第4族、第5族、第6族、および第12族からなる群から選択される一種以上の金属の酸化物または水酸化物と、固体の窒素化合物の混合物を加熱することにより、効率的に金属酸化物に窒素を導入することができ、さらにそれを活性化させることにより可視光領域で高い触媒能を有する光触媒を提供することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
(1)以下の成分: (a)第4族、第5族、第6族、および第12族からなる群から選択される一種以上の金属の酸化物または水酸化物と、 (b)常温で固体の窒素化合物と、 (c)以下の式(1)を有するヒドラジンもしくはアルキルヒドラジン、またはその塩、またはその付加物からなる群から選択されるヒドラジン化合物:
IPC (9件):
C01B 13/14 ,  C01G 23/047 ,  B01J 35/02 ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/20 ,  B01J 23/24 ,  C01G 33/00 ,  C01G 9/02 ,  C01G 41/02
FI (9件):
C01B13/14 A ,  C01G23/047 ,  B01J35/02 J ,  B01J23/06 M ,  B01J23/20 M ,  B01J23/24 M ,  C01G33/00 A ,  C01G9/02 A ,  C01G41/02
Fターム (40件):
4G042DA02 ,  4G042DB28 ,  4G042DC03 ,  4G042DD08 ,  4G042DE03 ,  4G042DE05 ,  4G042DE07 ,  4G047CA02 ,  4G047CB09 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G048AA02 ,  4G048AB01 ,  4G048AC08 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  4G169AA01 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC35B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC55B ,  4G169BC60B ,  4G169BD06A ,  4G169BD06B ,  4G169CA10 ,  4G169EA01Y ,  4G169EC27 ,  4G169FB07 ,  4G169FB30 ,  4G169HA02 ,  4G169HB02 ,  4G169HB06 ,  4G169HC02 ,  4G169HD04 ,  4G169HE03 ,  4G169HE06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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