特許

J-GLOBAL ID：200903005369218902

プラズマ処理装置

発明者： 寒川 誠二 ,  中川 行人 ,  佐藤 久明 ,  塚田 勉 ,  篠原 己拔 ,  新村 保夫
出願人/特許権者： 日本電気株式会社 ,  アネルバ株式会社 ,  日本高周波株式会社
代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-307208
公開番号（公開出願番号）：特開平10-134996
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 100MHzから1000MHzの範囲の周波数の高周波を使用してプラズマ形成することができる実用的な装置を提供する。【解決手段】 プラズマ形成のための高周波電界を設定するアンテナ44は、放射線上に中心対称的に配置された複数のアンテナ素子441と、各アンテナ素子441の先端を短絡した同心円環状の先端短絡用導体442と、各アンテナ素子443の周辺側端部を保持した円筒状の保持枠443で構成されており、500MHz2kw程度の高周波電源43から高周波電力を高周波線路45は一つのアンテナ素子441にのみ接続されている。隣接する二つのアンテナ素子441と先端短絡用導体は高周波の波長の1/2の長さを有して共振回路を構成する。一つのアンテナ素子441に供給された高周波が共振しながら隣接するアンテナ素子441に効率よく伝搬するため、アンテナ44全体が均一に励振され、均一性の高いプラズマが高効率で形成される。

請求項（抜粋）：

プラズマ形成用のガスに所定の高周波電力を供給するアンテナを具備しており、アンテナから供給された高周波電力によってプラズマを形成し、形成されたプラズマによって基板の表面に所定の処理を行うプラズマ処理装置であって、前記アンテナは、基板と同軸上の中心点に対して中心対称的に配置された複数のアンテナ素子を有し、各アンテナ素子の先端は、中心点に対して中心対称的に高周波電流の経路を設定する先端短絡用導体によって短絡されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

H05H 1/46 A ,  H05H 1/46 B ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-122978   出願人：日本電気株式会社, 日本高周波株式会社, 日電アネルバ株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-351309   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-167451   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 高周波電力印加装置、プラズマ発生装置、プラズマ処理装置、高周波電力印加方法、プラズマ発生方法及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-001242   出願人：松下電器産業株式会社