特許
J-GLOBAL ID：200903005434748205

洗浄方法

発明者：
喜田 哲也

喜田 哲也 について

, 
渡邉 和廣

渡邉 和廣 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-315389
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162148
出願日： 1995年12月04日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：
【要約】【課題】 洗浄対象物へ与えるダメージの少ない洗浄方法を提供する。【解決手段】 イオン分離膜によって相互に分離された第1の槽と第2の槽の中に電解質溶液を収容する工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を陰極側、前記第2の槽内の電解質溶液を陽極側として、電気分解を行う工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を洗浄対象物表面に接触させる洗浄工程とを有する。
請求項（抜粋）：
イオン分離膜によって相互に分離された第1の槽と第2の槽の中に電解質溶液を収容する工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を陰極側、前記第2の槽内の電解質溶液を陽極側として、電気分解を行う工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を洗浄対象物表面に接触させる洗浄工程とを有する洗浄方法。
IPC (8件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04 ,  C23F 1/32 ,  C23G 1/14 ,  C25F 1/00 ,  H01L 21/3063 ,  H01L 21/308
FI (9件)：
H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 T ,  B08B 3/04 Z ,  C23F 1/32 ,  C23G 1/14 ,  C25F 1/00 Z ,  H01L 21/308 F ,  H01L 21/306 L
引用特許：
審査官引用 (4件)
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