特許
J-GLOBAL ID：200903005510813640

シリコンウエーハ用の高純度アルカリエッチング液およびシリコンウエーハアルカリエッチング方法

発明者：
西村 茂樹

西村 茂樹 について


出願人/特許権者：
シルトロニック・ジャパン株式会社

シルトロニック・ジャパン株式会社 について


代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  杉本 博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-353252
公開番号（公開出願番号）：特開2005-210085
出願日： 2004年12月06日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】金属不純物による汚染が極めて低く、かつ優れた平坦度を与えるシリコンウエーハ用の高純度アルカリエッチング液、およびそれを用いたシリコンウエーハアルカリエッチング方法を提供する。【解決手段】Cu,Ni,Mg,Cr元素含有量が1ppb以下、Pb,Fe元素含有量が5ppb以下、Al,Ca,Zn元素含有量が10ppb以下、塩化物,硫酸塩,リン酸塩,窒素化合物が1ppm以下であり、水酸化ナトリウム成分が40〜60質量%であり、かつ亜硝酸イオン及び/又は硝酸イオンが0.01〜10質量%含まれることを特徴とする、シリコンウエーハ用の高純度アルカリエッチング液。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
Cu,Ni,Mg,Cr元素含有量が1ppb以下、Pb,Fe元素含有量が5ppb以下、Al,Ca,Zn元素含有量が10ppb以下、塩化物,硫酸塩,リン酸塩,窒素化合物が1ppm以下である水酸化ナトリウム(以下高純度水酸化ナトリウムと記す)であり、かつ硝酸塩及び/又は亜硝酸塩が0.01〜10質量%含まれることを特徴とするアルカリエッチング液。
IPC (1件)：
H01L21/308
FI (1件)：
H01L21/308 B
Fターム (5件)：
5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043DD07 ,  5F043FF07 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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