特許
J-GLOBAL ID：200903005578364991

高周波プラズマ発生装置と、該高周波プラズマ発生装置により構成された表面処理装置及び表面処理方法

発明者：
村田正義

村田正義 について

, 
村田泰子

村田泰子 について


出願人/特許権者：
村田 正義

村田 正義 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-016444
公開番号（公開出願番号）：特開2005-123654
出願日： 2005年01月25日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】VHFあるいはUHFプラズマのCVD及びエッチング等基板の表面処理への応用において、超高周波特有の定在波の影響を抑制することにより、大面積・均一のプラズマ表面処理が可能な表面処理装置および表面処理方法を提供すること。【解決手段】基板の法線方向に電界を有する電磁波の定在波の腹の位置が異なる2つの定在波を発生させ、それらを重畳させる手段を備え、かつ、該2つの定在波の腹の位置を制御することを特徴とする大面積・均一プラズマの発生が可能な高周波プラズマ発生装置、該装置により構成されたプラズマ表面処理装置及び表面処理方法。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
発振周波数がVHF帯域ないしUHF帯域に属する高周波電源の出力の電力を用いて生成されるプラズマを利用して真空容器に配置された基板の表面を処理する表面処理装置に用いられる高周波プラズマ発生装置において、前記基板の表面の法線方向と実質的に同じ方向の電界を有する電磁波の定在波の腹の位置が異なる第1の定在波と第2の定在波を発生させ、かつ、該第1及び第2の定在波を重畳させる手段を備えたことを特徴とする高周波プラズマ発生装置。
IPC (2件)：
H01L21/205 ,  H01L21/3065
FI (2件)：
H01L21/205 ,  H01L21/302 101D
Fターム (47件)：
4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030FA03 ,  4K030JA05 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030JA19 ,  4K030KA15 ,  4K030LA16 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BA05 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA17 ,  5F004DA18 ,  5F004DB01 ,  5F004DB02 ,  5F004DB08 ,  5F004DB23 ,  5F004DB24 ,  5F004DB30 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AB39 ,  5F045AC01 ,  5F045AF08 ,  5F045BB02 ,  5F045CA13 ,  5F045DP22 ,  5F045DQ14 ,  5F045DQ15 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045EH01 ,  5F045EH04 ,  5F045EH06 ,  5F045EH11 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM