平衡伝送回路と、該平衡伝送回路により構成されたプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-155741
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235673
出願日： 2004年05月26日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】VHF帯域のプラズマ生成及びプラズマ表面処理への応用において、一対の電極間以外でのプラズマ発生及び異常放電を抑制し、電力損失の防止及び大面積・均一のプラズマ表面処理化が可能で、かつ、狭電極間隔条件に対応可能な表面処理装置および表面処理方法を提供すること。【解決手段】プラズマ表面処理装置及び方法に用いられる平衡伝送回路であって、2本の同軸ケーブルの外部導体同士が少なくとも両端部で短絡され、かつ、該2本の同軸ケーブルの一方の端部の芯線を入力部とし、他方の端部の芯線を出力部と刷るという構成であることを特徴とする平衡伝送回路。該平衡伝送回路により構成されることを特徴とするプラズマ表面処理装置及び方法。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

排気系を備えた真空容器と、この真空容器内に放電用ガスを供給する放電用ガス供給系と、プラズマ生成用の電極と、高周波電源とインピーダンス整合器と平衡不平衡変換装置から成る電力供給系と、プラズマ処理すべき基板を配置する基板保持手段とを具備し、生成したプラズマを利用して基板の表面を処理するプラズマ表面処理装置に用いられる平衡伝送回路であって、2本の長さが略等しい同軸ケーブルの外部導体同士が少なくともそれぞれの両端部で短絡され、かつ、該2本の同軸ケーブルの一方の端部のそれぞれの芯線を入力部とし、他方の端部のそれぞれの芯線を出力部とするという構成を有することを特徴とする平衡伝送回路。

IPC (3件)：

H01L21/205 , C23C16/505 , H05H1/46

FI (4件)：

H01L21/205 , C23C16/505 , H05H1/46 M , H05H1/46 R

Fターム (22件)：

4K030AA06 , 4K030BA30 , 4K030CA06 , 4K030CA17 , 4K030FA03 , 4K030KA10 , 4K030KA17 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 4K030LA16 , 4K030LA17 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AF07 , 5F045AF11 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045CA13 , 5F045CA15 , 5F045EH01 , 5F045EH19

引用特許：

出願人引用 (10件)

表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-156968 出願人：アネルバ株式会社
表面処理装置及び表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-199720 出願人：三菱重工業株式会社
特開平4-236781(第2-4頁、第1-4図)

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