特許

J-GLOBAL ID：200903005807411060

感放射線性樹脂組成物

発明者： 高橋 表 ,  佐藤 健一郎 ,  安波 昭一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-025548
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215714
出願日： 2000年02月02日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもSi元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、25°Cでの粘度が6.0mPa・sec以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもSi元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、25°Cでの粘度が6.0mPa・sec以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ06 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB51 ,  2H025CC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-029321   出願人：信越化学工業株式会社
• レジストパターンの形成方法および半導体集積回路装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-020847   出願人：株式会社日立製作所
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-060278   出願人：東亞合成株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-327091   出願人：富士写真フイルム株式会社