リソグラフィ装置の偏光した放射及びデバイス製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 山本貴和 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-375578
公開番号（公開出願番号）：特開2006-191064
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：

【課題】リソグラフィ装置の偏光した放射及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の照明システムの寿命を維持及び延長しながら、露光許容範囲のような像形成特性を改善するように偏光を使用する。【選択図】図3a

請求項（抜粋）：

放射ビームを条件付けするように構成された照明システムと、パターン形成デバイスを支持するように組み立てられた支持物であって、前記パターン形成デバイスが前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン形成された放射ビームを形成するように構成されているものである支持物と、基板を保持するように組み立てられた基板テーブルと、前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を備えるリソグラフィ装置であって、光学能動素子を備え、前記光学能動素子が、前記放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を選択的に与えるように、又は前記放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を与え、かつ前記放射ビームの第2の部分に第2の方向の直線偏光を与えるように構成され、前記第2の方向が前記第1の方向に対して垂直である、リソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G02B 5/30

FI (4件)：

H01L21/30 515D , H01L21/30 527 , G03F7/20 521 , G02B5/30

Fターム (8件)：

2H049BA06 , 2H049BA42 , 2H049BC21 , 5F046BA03 , 5F046CA04 , 5F046CB13 , 5F046CB15 , 5F046CB22

引用特許：

出願人引用 (5件)

照明光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-219782 出願人：株式会社ニコン
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-272626 出願人：キヤノン株式会社
反射屈折縮小対物レンズ
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-514856 出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

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審査官引用 (5件)

照明光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-219782 出願人：株式会社ニコン
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-354150 出願人：株式会社東芝
照明装置及びそれを用いた投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-360795 出願人：キヤノン株式会社

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