特許
J-GLOBAL ID：200903005884298129
平面導波路型光回路の製作方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-360497
公開番号（公開出願番号）：特開平11-002737
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：
【要約】【課題】 高い精度を有する平面導波路型光回路を簡略に製作し得る方法を提供する。【解決手段】 平面導波路型光回路の製作方法は、シリカ系ガラスの下部クラッド層(1)上にシリカ系ガラスのコア層(12)を形成し、そのコア層(12)は第1の添加元素とその第1の添加元素の添加による屈折率の増大を打消すように作用する第2の添加元素とを含み、コア層(12)上にシリカ系ガラスの上部クラッド層(14)を形成し、所定の光回路パターンを有するX線マスク(20)を上部クラッド層(14)上に配置し、そのX線マスク(20)を介してコア層(12)にX線(22)を照射し、これにより、そのコア層(12)中に光回路パターンに対応した高屈折率領域(12a)を形成することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
シリカ系ガラスの下部クラッド層を用意し、前記下部クラッド層上にコア層を形成し、前記コア層は第1の添加元素と第2の添加元素とを含むシリカ系ガラスからなり、前記第1の添加元素はシリカ系ガラスの屈折率を増大させかつ前記第2の添加元素は前記第1の添加元素によるシリカ系ガラスの屈折率の増大を打消すように作用するものであり、前記コア層上に上部クラッド層を形成し、所定の光回路パターンを有するX線マスクを前記上部クラッド層上に配置し、前記コア層に前記X線マスクを介してX線を照射し、これにより、前記コア層中に前記光回路パターンに対応した高屈折率領域を形成することを特徴とする平面導波路型光回路の製作方法。
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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