特許
J-GLOBAL ID：200903005907244145
非破壊検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 塩田 辰也
, 寺崎 史朗
, 池田 成人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-173136
公開番号（公開出願番号）：特開2004-020279
出願日： 2002年06月13日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】複数の走査光の照射位置を容易に調整できる非破壊検査装置を提供する。【解決手段】この発明の非破壊検査装置は、複数のレーザ光をウェーハ5に照射する。ウェーハの裏面側には、ズームレンズ128が配置される。ズームレンズは、複数のレーザ光を平行な軸線に沿って集光する。これらのレーザ光は、ウェーハ上のダイ52に一対一に照射される。ウェーハの表面側には、磁場検出装置16が配置される。磁場検出装置は、レーザ光と同数の検出ヘッド16a〜16cを有している。複数個のダイがレーザ光によって一括走査され、各ダイについて磁場分布データが取得される。コンピュータ18は、この磁場分布データに基づいてダイの欠陥を検出する。レーザ光の照射位置の間隔は、ズームレンズのズーム比に応じて一括して変化する。ズーム比を変えるだけで照射位置の間隔を容易に調整できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面および裏面を有する試料を走査し、前記表面上に配列された同一形状の複数の領域の各々に設けられた所定の構造の欠陥を検出する非破壊検査装置であって、
複数本のレーザ光を放出する投光手段と、
前記試料の裏面側に配置され、前記複数本のレーザ光を受光し、これらのレーザ光を互いに平行な軸線に沿ってそれぞれ集光し、これらのレーザ光をその本数と同数の前記領域に一対一に照射するズームレンズと、
前記ズームレンズのズーム比を制御して、前記複数本のレーザ光の照射位置の間隔を調整するズーム制御手段と、
各前記レーザ光の照射位置を各前記領域内で移動させて複数個の前記領域を一括走査する走査手段と、
前記試料の表面側に配置され、前記一括走査される複数個の領域から発生する磁場を検出し、前記複数個の領域の各々について磁場分布データを取得する磁場検出手段と、
を備え、
前記磁場分布データに基づいて各前記領域の前記構造の欠陥を検出する非破壊検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
2G053AA11
, 2G053AA30
, 2G053AB01
, 2G053BA02
, 2G053BA15
, 2G053BC13
, 2G053CA10
, 2G053CA18
, 2G053CB29
, 2G053DA01
, 2G053DB03
, 2G053DB20
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA39
, 4M106DB01
, 4M106DB08
, 4M106DB30
, 4M106DJ18
, 4M106DJ23
