特許
J-GLOBAL ID：200903005932738390
研磨液組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-042694
公開番号（公開出願番号）：特開2004-253058
出願日： 2003年02月20日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、微小うねりを低減し、経済的に研磨をすることが可能であるメモリーハードディスク用研磨液組成物、及び該研磨液組成物を用いたメモリーハードディスク用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】水系媒体中に平均粒子径が200nm以下であるシリカを研磨材として含有するメモリーハードディスク用の研磨液組成物であって、該研磨材が透過型電子顕微鏡観察による平均粒子径(個数基準)と標準偏差(個数基準)が式(1):(標準偏差)>0.9067×(平均粒子径)+0.588で表される粒径分布のシリカを第1成分として含有し、さらに第2成分として第1成分のシリカとは平均粒子径及び/又は標準偏差が異なる他のシリカを含有する研磨液組成物、及び該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を有する、メモリーハードディスク用基板の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水系媒体中に平均粒子径が200nm以下であるシリカを研磨材として含有するメモリーハードディスク用の研磨液組成物であって、
該研磨材が透過型電子顕微鏡観察による平均粒子径(個数基準)と標準偏差(個数基準)が式(1)で表される粒径分布のシリカを第1成分として含有し、さらに第2成分として第1成分のシリカとは平均粒子径及び/又は標準偏差が異なる他のシリカを含有する研磨液組成物。
(標準偏差)>0.9067 × (平均粒子径)+0.588 (1)
IPC (3件)：
G11B5/84
, B24B37/00
, C09K3/14
G11B5/84 A
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550D
3C058AA07
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 3C058CB05
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 5D112AA02
, 5D112BA05
, 5D112BA06
, 5D112BA09
, 5D112GA02
, 5D112GA14
