特許
J-GLOBAL ID：200903005949061733
露光装置用反射鏡および露光装置ならびに、それらを用いて製造される半導体デバイス
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅原 正倫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-122985
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318094
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 露光装置を構成する光学系に用いられる多層膜反射鏡を使用した露光装置において、露光光、特に、紫外波長領域以下の露光光に対する反射率の向上および、それに伴う投影光学系における解像力の向上等を可能とする露光装置、ならびに、半導体デバイスを提供する。【解決手段】 露光装置用反射鏡1は、周期構造体100が基体5上に積層された積層体50を有してなり、該周期構造体100は、各々露光光に対して屈折率の違う媒質よりなる高屈折率層10と低屈折率層11とが交互に周期的に配列されるとともに積層されたものとされる。また、その周期構造体100における1周期は、高屈折率層10と低屈折率層11とを一対としたものとされる。さらに、その1周期の層厚を、各々高屈折率層10および低屈折率層11を構成する各々媒質における露光光の媒質内波長を平均化した媒質内平均波長λaの半波長(λa/2)の整数倍に対応するように調整する。
請求項（抜粋）：
光源より得られる露光光を、照明光学系を介して、マスクパターンをなすマスクパターン層が形成された第一基板上に照明し、該マスクパターンの像を、投影光学系を介して第二基板上に縮小転写させる露光装置において、該露光装置を構成する前記マスクパターン層、前記照明光学系および前記投影光学系のうち少なくともいずれかに、多層膜反射鏡として用いられる露光装置用反射鏡であって、前記露光光に対する屈折率の違う2種以上の媒質を周期的に配列させた複数の周期構造体が、基体上に積層された積層体を有してなり、かつ、該周期構造体は、前記露光光に対して一次元フォトニック結晶となるように、その1周期の層厚が調整されてなることを特徴とする露光装置用反射鏡。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 5/08
, G03F 7/20 521
G02B 5/08 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 531 A
, H01L 21/30 515 D
2H042DA01
, 2H042DA08
, 2H042DA10
, 2H042DA12
, 2H042DA14
, 2H042DB00
, 2H042DC01
, 2H042DC02
, 2H042DC03
, 2H042DE00
, 5F046AA05
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046GA03
, 5F046GB01
