ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-102822
公開番号（公開出願番号）：特開平11-295893
出願日： 1998年04月14日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】パターンプロファイルの形状が優れ、特にパターンプロファイルの矩形性に優れ、高解像力を有し、且つ孤立パターン再現性が優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること【解決手段】特定の構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(I)で示される基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中、R1 、R2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基を表し、Wは単結合もしくは2価の有機基を表し、R3 は酸の作用により分解する基を表す。

引用特許：

審査官引用 (9件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-136075 出願人：日本合成ゴム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-217524 出願人：富士写真フイルム株式会社
平版印刷版材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-295601 出願人：コニカ株式会社

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