特許

J-GLOBAL ID：200903006186878918

フォトマスクブランク及びフォトマスク

発明者： 三井 勝 ,  牛田 正男
出願人/特許権者： HOYA株式会社 ,  ホーヤ エレクトロニクス マレーシア センドリアン ベルハッド
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-090630
公開番号（公開出願番号）：特開2008-249949
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】i線〜g線にわたる波長帯域において、波長変化に対する透過率変化が小さい半透光性膜を備えたFPDデバイスを製造するためのマスクブランクを提供する。【解決手段】FPDデバイスを製造するためのマスクブランクであって、透光成基板16と、前記基板16上に形成されたクロムを含む材料からなる半透光性膜17と、前記半透光性膜17上に形成されたタンタルを含む材料からなる遮光性膜18と、を備えることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

FPDデバイスを製造するためのマスクブランクであって、 基板と、 前記基板上に形成されたクロムを含む材料からなる半透光性膜と、 前記半透光性膜上に形成されたタンタルを含む材料からなる遮光性膜と、 を備えることを特徴とするマスクブランク。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/136 ,  G02F 1/133 ,  G09F 9/30 ,  H01L 27/32

FI (8件)：

G03F1/08 A ,  G03F1/08 G ,  H01L21/30 502P ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1335 500 ,  G02F1/1335 505 ,  G09F9/30 338 ,  G09F9/30 365Z

Fターム (26件)：

2H091FA34Y ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC26 ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091LA30 ,  2H092MA14 ,  2H092PA01 ,  2H095BA12 ,  2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H191FA13Y ,  2H191FB14 ,  2H191FC02 ,  2H191FC36 ,  2H191GA01 ,  2H191GA19 ,  2H191LA40 ,  5C094AA14 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094DA13 ,  5C094ED15 ,  5C094FB12 ,  5C094GB10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 韓国特許公開2006-62200号
  

審査官引用 (5件)

• ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-127548   出願人：大日本印刷株式会社
• 位相シフトマスクとその製造方法、ならびにマスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-072884   出願人：凸版印刷株式会社
• グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにグレートーンマスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-049425   出願人：HOYA株式会社
• 階調をもつフォトマスクの欠陥修正方法および階調をもつフォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-079193   出願人：大日本印刷株式会社
• フォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-390382   出願人：大日本印刷株式会社